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  • 它是一種延遲測量設備，支持所有類型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、層壓延遲膜和帶有 IPS 液晶延遲膜的偏光板。 實現與超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度測量。 可以“無損、無剝離”地測量薄膜的層壓狀態。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，支持因樣品重新定位而導致的錯位，可輕松實現高精度測量。
  • 評估和分析不斷發展的 FPD 制造過程中的各種薄膜
  • 它是一個具有模式匹配功能和 2um 或更小的 XY 定位精度的系統。
  • 在晶圓等的研磨研磨工序中，以超高速、高精度無接觸地測量晶圓和樹脂的厚度。
  • 是一種可以方便地離線檢測面內膜厚不均勻性的設備，用于膜的研發和質量控制的抽檢。 可以高速且高精度地測量整個表面。
  • 它是一種可以在薄膜生產現場在線測量薄膜厚度的設備。 通過將開創的光譜干涉技術與新開發的高精度膜厚計算處理技術相結合，可以以至少0.01的測量間隔測量寬度為500mm（使用一臺時）的膜厚秒。
  • 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-6800 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-6800 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-6800
  • 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-9800 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-9800 日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-9800
  • 日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000S 日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000S日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000S
  • 日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000
  • 日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/BB
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200
  • 日本大冢分光干渉式晶圓膜厚儀SF-3 日本大冢分光干渉式晶圓膜厚儀SF-3 日本大冢分光干渉式晶圓膜厚儀SF-3
  • 日本大冢在線型線掃描膜厚儀 日本大冢在線型線掃描膜厚儀 日本大冢在線型線掃描膜厚儀
  • 日本大冢線掃描膜厚儀離線型 日本大冢線掃描膜厚儀離線型 日本大冢線掃描膜厚儀離線型
  • 日本大冢在線膜厚檢測裝置 日本大冢在線膜厚檢測裝置 日本大冢在線膜厚檢測裝置
  • 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3
  • 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2
  • 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1
  • 多通道光譜儀MCPD系列膜厚測量MCPD-7700 多通道光譜儀MCPD系列膜厚測量MCPD-7700 多通道光譜儀MCPD系列膜厚測量MCPD-7700
  • 膜厚測量MCPD系列多通道光譜儀MCPD-3700 膜厚測量MCPD系列多通道光譜儀MCPD-3700 膜厚測量MCPD系列多通道光譜儀MCPD-3700
  • MCPD系列膜厚測量多通道光譜儀MCPD-9800 MCPD系列膜厚測量多通道光譜儀MCPD-9800 MCPD系列膜厚測量多通道光譜儀MCPD-9800
  • 非接觸式光學膜厚儀AT-5000 非接觸式光學膜厚儀AT-5000 非接觸式光學膜厚儀AT-5000
  • 非接觸式光學膜厚儀AT-1500 非接觸式光學膜厚儀AT-1500 非接觸式光學膜厚儀AT-1500
  • FE-5700 OTSUKA大冢-膜厚測量系統 OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-5700OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-5700
  • FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚測量系統 OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統FE-3700
  • RH50 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統 對應微LED等微小樣品的配光測定系統RH50.。 與光學模擬軟件的聯合是可能的，可以簡單地高速取得2π空間全方位的光線。50×50mm尺寸以上請看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統RH50OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統RH50
  • SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統 *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統SF-3Rθ
  • SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3Rθ
  • SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAF
  • SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AA
  • GS-300 OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統 搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統。OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300
  • 　SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200
  • 　SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300
  • 　SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300
  • 　SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB
  • 　AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500
  • OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計
  • 　AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000
  • OTSUKA大冢-線掃描膜厚計 在線薄膜生產現場能夠對薄膜的膜厚進行全幅、全長測量的裝置。 通過在獨自的分光干涉法中組合新開發的高精度膜厚演算處理技術，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
  • 　FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
  • 　FE-5000 OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000
  • OTSUKA大冢-嵌入式膜厚監視器 OTSUKA大冢-嵌入式膜厚監視器 高精度地實現具有波長依存性的多層膜測量！
  • MCPD series OTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD series
  • FE-300 OTSUKA大冢-膜厚監視器 是一種通過簡單操作實現高精度光干涉法的膜厚測量的小型低價格的膜厚計。 采用將必要的機器收納在機身部位的一體化體型外殼，實現了穩定的數據的獲取 通過獲取低價位的優良反射率，也可以進行光學常數的分析。OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300
  • FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計 利用顯微的微小領域的優良反射率的取得，通過高精度的光干涉法的膜厚解析可能的裝置。 多種多樣的樣品的膜厚·光，除了半導體領域的圖案樣品、透鏡和鉆孔之類的形狀樣品之外，還有表面粗糙度和膜厚不均的樣品。能夠進行定數分析。OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000
  • OPTM series OTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM series

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